4寸6寸8寸小型勻膠機/甩膠機/旋塗儀

小型勻膠機真空吸盤4英吋(鋁合金內膽)用於手套箱通入氬氣

小巧型勻膠機/甩膠機/旋塗儀EasyCoater 4 被設計為結構緊湊、簡單易用，可多步操作，性能穩定，具有優異性價 比的小巧型勻膠機。結構緊湊 EZ4外型尺寸小巧，從手套箱過渡艙內方便 進出。大推薦可旋塗4寸圓形底物。 文本顯示屏，界面簡單易用，清晰的功能按 鍵，方便靈活操作。中英文界面可選擇。程控操作 可提供單步或多步程序旋塗運行，多可運 行5步不同轉

勻膠機型號：EZ4 EZ6 EZ8 AC200-S-PP AC200-SE AC-200PE AC300-SE IC5000 IC8000

1.EZ4 四英吋勻膠機配置鋁合金內膽用於手套箱氬氣環境

2.  6英吋靈巧型臺式勻膠機/甩膠機/旋塗儀/EZ6

3.  8英吋智能勻膠機EZ8

4.AC200-S-PP 智能伺服控制8英吋勻膠機

5.AC200衍生機（定製）/自動勻膠顯影機8英吋

AC200衍生機產品參數：

轉速範圍：20-10000rpm
轉速分辨率：±1rpm
加速度可調範圍：20-50000rpm/s
單步時長：3000s
時間分辨率：0.1s
可編程100組100步程序，更多可擴展
帶四路自動點膠端口，可升級多路自動點膠功能
標配10mm、25mm、55mm三種直徑規格真空載物盤
主機外型尺寸：306mm(W)*434mm(D)*306mm(H)

AC200衍生機（定製）全新外觀設計，適配實驗室實驗操作； 的設計理念，模塊化設計；可快速拆卸和替換原有功能模塊，操作便捷；支持去邊、背洗、勻膠、顯影、清洗等功能模塊個性化定製；可實現不同功能模塊的自由組合定製；配載精密的運動控制系統，提高實驗精度及重複性。

6.AC200-SE 標準型程控伺服勻膠機8英吋

7.AC300-SE 12英吋伺服程控勻膠機

8.IC5000 控溫勻膠機2英吋旋轉速度5000rmp

技術參數

VTC-50A旋轉蒸發塗膜機勻膠機

VTC-50A旋轉塗膜機供電系統採用了電機部分與控制部分分別使用獨立電源的方式，調速系統則採用了抗干擾性高的單片機進行控制，使得轉數在高達 1000-8000RPM 範圍內都非常穩定。塗膜機在工作時設有兩個階段，分別為低轉速SPD1、低轉速運轉時間 T1 階段與高轉速SPD2、高轉速運轉時間T2 階段，在低轉速階段使薄膜液體逐漸分散開，完成注膠的過程，在高轉速階段使薄膜液體在基片表面均勻分散開，形成厚度均勻的薄膜，完成勻膠的過程，在勻膠之前要對勻膠時間進行設置，當勻膠時間結束后機器自動停止運轉，塗膜的整個過程結束。VTC-50A旋轉塗膜機主要適用於液體、膠狀體、可流動糊狀體等薄膜材料的使用，能夠在瞬間提供可控的高速轉數，迅速使液體、膠狀體等材料在襯底上均勻地形成薄膜。樣品固定採用帶槽的聚丙烯樣品卡盤固定基片，根據基片的形狀和大小的不同，可在隨機配送的模板上開不同形狀和大小的槽，使用方便操作簡單，對基片無損傷。本機啟動快速、轉數穩定，可以保証膜層厚度的均勻性與一致性。此外，在安裝結構上，採取了減震措施，使設備運轉時更加穩定、噪音降低。該設備操作簡單、清理方便，體積小巧等優點，主要應用於各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。

產品名稱	VTC-50A旋轉塗膜機
產品型號	VTC-50A
安裝條件	1、溫濕度：10-85%RH (at 25℃ 無凝露） 溫度： 0-45℃， 2、設備週圍無強烈震源和腐蝕氣體下使用。 3、水：不需要 4、電：單相：AC220V 50Hz 國標三極插座 10A 必須有良好接地 5、氣：不需要 6、工作台：建議 800X600X700mm 承重 100KG 以上(固體水泥台 ） 7、通風裝置：無特殊要求
主要參數	1、供電接口：帶保險電源插座：AC220/110V 50/60Hz 保險管規格為 10A、φ5×20mm 2、總功率：≤150W 3、載樣盤（卡盤)：聚丙烯樣品卡盤 φ100mm 4、運行方式：逆時針旋轉 設有兩個運行階段 5、塗膜轉速：SPD1 轉速：500-8000 RPM 有效 SPD2 轉速：500-8000 RPM 有效 6、塗膜時間：T1 時間：1--600s 有效 T2 時間：1--600s 有效 7、轉速穩定性：±1% 8、控制方式：PCB 單片機 按鍵控制 數碼管顯示
產品規格	外形尺寸260mm（長）×380mm（寬）×330mm（高）； 重量：20kg

VTC-100真空旋轉塗膜機

VTC-100 真空旋轉塗膜機適用於半導體工藝，製版及表面塗覆等工藝。本機具有操作簡單、清理方便、體積小巧等優點，主要應用於各大專院校，科研院所的實驗室中進行薄膜生成過程。本機具有操作簡單、清理方便、體積小巧等優點，主要應用於各大專院校，科研院所的實驗室中進行薄膜生成過程。設備採用真空吸附樣件方式，使樣件取放自如，減少以往繁瑣操做程序。標配φ25mm，φ50mm，φ100mm 聚丙烯真空吸盤各一個，適用於不同尺寸硅片及其他材料等塗膜。本機內部供電系統採用了電機部分與控制部分分別使用獨立電源的方式，調速系統則採用了抗干擾性高的單片機進行控制，使得轉數在高達 1000-8000RPM 範圍內都非常穩定。塗膜機本機啟動快速、轉數穩定，可以保証膜層厚度的均勻性與一致性。此外，在安裝結構上，採取了減震措施，使設備運轉時更加穩定、噪音降低。

產品名稱	VTC-100真空旋轉塗膜機
產品型號	VTC-100
安裝條件	1、溫濕度：10-85%RH (at 25℃ 無凝露） 溫度： 0-45℃。 2、設備週圍無強烈震源和腐蝕氣體。 3、水不需要 4、電：單相：AC220V 50Hz 國標三極插座 10A 必須有良好接地 5、氣：真空負壓（真空泵） 抽氣流量不小於 70L/M 6、工作台：建議 800X600X700mm 承重 100KG 以上(固體水泥台 ） 7、通風裝置：無特殊要求
主要參數	1、供電接口：帶保險電源插座：AC220/110V 50/60Hz 保險管規格為 10A、φ5×20mm 2、總功率：≤150W 3、載樣盤（吸盤）：聚丙烯真空吸盤Φ25mm φ50mm φ100mm 各一個 4、運行方式：逆時針旋轉 設有兩個運行階段 5、塗膜轉速：SPD1 轉速：500-8000 RPM 有效 SPD2 轉速：500-8000 RPM 有效 6、塗膜時間：T1 時間：1--600s 有效 7、轉速穩定性：±1% 8、控制方式：PCB 單片機 按鍵控制 數碼管顯示 注：為避免客戶使用時出現誤操作/誤觸碰造成設備損坏，國內標準設備后部“電壓轉換開關”只支持 AC220V 50Hz 供電，如需 AC220V/AC110V 50HZ/60Hz 轉換的設備時，請與本公司銷售人員溝通說明，設備實際供電以產品后部粘貼標牌為準。
產品規格	尺寸：380mm×260mm×330mm； 重量：20kg

VTC-200真空旋轉塗膜機

VTC-200真空旋轉塗膜機具有操作簡單、清理方便，體積小巧等優點，主要應用於各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。VTC-200真空旋轉塗膜機工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上，該設備利用兩段程序控制速度。首先開動塗膜機將設備轉數設置在一定的轉數範圍內，在此轉數範圍內設置一定的注膠時間對樣品進行注膠，注膠結束后塗膜機會提升轉數至第二段的極限轉數進行勻膠，在勻膠之前要對勻膠時間進行設置，當勻膠時間結束后機器自動停止運轉，塗膜的整個過程結束VTC-200真空旋轉塗膜機利用高速旋轉使粘滯係數較大的膠體、溶液等材料均勻地塗覆在樣件表面。

技術參數

產品名稱	VTC-200真空旋轉塗膜機
產品型號	VTC-200
安裝條件	1、溫濕度：10-85%RH (at 25℃ 無凝露）  溫度：0-45℃。 2、設備週圍無強烈震源和腐蝕氣體。 3、水：不需要 4、電：單相：AC220V 50Hz 國標三極插座 10A 必須有良好接地 5、氣：真空負壓（真空泵） 抽氣流量不小於 70L/M 6、工作台：建議 800X600X700mm承重 100KG 以上(固體水泥台 ） 7、通風裝置：無特殊要求
主要參數	1、供電接口：帶保險電源插座：AC220/110V 50/60Hz 保險管規格為 10A、φ5×20mm 2、總功率：≤150W 3、載樣盤（吸盤+擋片）：φ153mm 聚丙烯真空吸盤 1 個： 6 寸（φ153mm）樣品擋片 1 套 8 寸（φ203.5mm）樣品擋片 1 套 4、運行方式：逆時針旋轉 設有兩個運行階段 5、塗膜轉速：SPD1 轉速：500-6000 RPM 有效  SPD2 轉速：500-6000 RPM 有效 6、塗膜時間：T1 時間：1--600s 有效    T2 時間：1--600s 有效 7、轉速穩定性：±1% 8、控制方式：PCB 單片機 按鍵控制 數碼管顯示 注：為避免客戶使用時出現誤操作/誤觸碰造成設備損坏，國內標準設備后部“電壓轉 換開關”只支持 AC220V 50Hz 供電，如需 AC220V/AC110V 50HZ/60Hz 轉換的設備時，請與本公司銷售人員溝通說明，設備實際供電以產品后部粘貼標牌為準。
產品規格	外形尺寸：500mm×350mm×400mm； 重量：30kg

VTC-100ML全自動多層鈣鈦礦旋轉塗層機

VTC-100ML全自動多層鈣鈦礦旋轉塗層機適用於鈣鈦礦材料的塗膜，半導體、晶體、光盤、製版等表面塗覆工藝。本機實現滴膠、旋塗、烘乾的整個過程自動完成；可同時交替塗覆兩種薄膜，兩種液體各交替 500次，實現千層薄膜的塗覆。本機可用於酸、碱性塗覆溶液的塗膜制備。設備標配不同尺寸的真空吸盤，可根據樣品尺寸不同選擇不同的真空吸盤，利用真空吸附的方式固定基片。該機主要應用於各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。

技術參數