4寸6寸8寸小型匀胶机/甩胶机/旋涂仪

小型匀胶机真空吸盘4英寸(铝合金内胆)用于手套箱通入氩气

小巧型匀胶机/甩胶机/旋涂仪EasyCoater 4 被设计为结构紧凑、简单易用，可多步操作，性能稳定，具有优异性价 比的小巧型匀胶机。结构紧凑 EZ4外型尺寸小巧，从手套箱过渡舱内方便 进出。大推荐可旋涂4寸圆形底物。 文本显示屏，界面简单易用，清晰的功能按 键，方便灵活操作。中英文界面可选择。程控操作 可提供单步或多步程序旋涂运行，多可运 行5步不同转

匀胶机型号：EZ4 EZ6 EZ8 AC200-S-PP AC200-SE AC-200PE AC300-SE IC5000 IC8000

1.EZ4 四英寸匀胶机配置铝合金内胆用于手套箱氩气环境

2.  6英寸灵巧型台式匀胶机/甩胶机/旋涂仪/EZ6

3.  8英寸智能匀胶机EZ8

4.AC200-S-PP 智能伺服控制8英寸匀胶机

5.AC200衍生机（定制）/自动匀胶显影机8英寸

AC200衍生机产品参数：

转速范围：20-10000rpm
转速分辨率：±1rpm
加速度可调范围：20-50000rpm/s
单步时长：3000s
时间分辨率：0.1s
可编程100组100步程序，更多可扩展
带四路自动点胶端口，可升级多路自动点胶功能
标配10mm、25mm、55mm三种直径规格真空载物盘
主机外型尺寸：306mm(W)*434mm(D)*306mm(H)

AC200衍生机（定制）全新外观设计，适配实验室实验操作； 的设计理念，模块化设计；可快速拆卸和替换原有功能模块，操作便捷；支持去边、背洗、匀胶、显影、清洗等功能模块个性化定制；可实现不同功能模块的自由组合定制；配载精密的运动控制系统，提高实验精度及重复性。

6.AC200-SE 标准型程控伺服匀胶机8英寸

7.AC300-SE 12英寸伺服程控匀胶机

8.IC5000 控温匀胶机2英寸旋转速度5000rmp

技术参数

VTC-50A旋转蒸发涂膜机匀胶机

VTC-50A旋转涂膜机供电系统采用了电机部分与控制部分分别使用独立电源的方式，调速系统则采用了抗干扰性高的单片机进行控制，使得转数在高达 1000-8000RPM 范围内都非常稳定。涂膜机在工作时设有两个阶段，分别为低转速SPD1、低转速运转时间 T1 阶段与高转速SPD2、高转速运转时间T2 阶段，在低转速阶段使薄膜液体逐渐分散开，完成注胶的过程，在高转速阶段使薄膜液体在基片表面均匀分散开，形成厚度均匀的薄膜，完成匀胶的过程，在匀胶之前要对匀胶时间进行设置，当匀胶时间结束后机器自动停止运转，涂膜的整个过程结束。VTC-50A旋转涂膜机主要适用于液体、胶状体、可流动糊状体等薄膜材料的使用，能够在瞬间提供可控的高速转数，迅速使液体、胶状体等材料在衬底上均匀地形成薄膜。样品固定采用带槽的聚丙烯样品卡盘固定基片，根据基片的形状和大小的不同，可在随机配送的模板上开不同形状和大小的槽，使用方便操作简单，对基片无损伤。本机启动快速、转数稳定，可以保证膜层厚度的均匀性与一致性。此外，在安装结构上，采取了减震措施，使设备运转时更加稳定、噪音降低。该设备操作简单、清理方便，体积小巧等优点，主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。

产品名称	VTC-50A旋转涂膜机
产品型号	VTC-50A
安装条件	1、温湿度：10-85%RH (at 25℃ 无凝露） 温度： 0-45℃， 2、设备周围无强烈震源和腐蚀气体下使用。 3、水：不需要 4、电：单相：AC220V 50Hz 国标三极插座 10A 必须有良好接地 5、气：不需要 6、工作台：建议 800X600X700mm 承重 100KG 以上(固体水泥台 ） 7、通风装置：无特殊要求
主要参数	1、供电接口：带保险电源插座：AC220/110V 50/60Hz 保险管规格为 10A、φ5×20mm 2、总功率：≤150W 3、载样盘（卡盘)：聚丙烯样品卡盘 φ100mm 4、运行方式：逆时针旋转 设有两个运行阶段 5、涂膜转速：SPD1 转速：500-8000 RPM 有效 SPD2 转速：500-8000 RPM 有效 6、涂膜时间：T1 时间：1--600s 有效 T2 时间：1--600s 有效 7、转速稳定性：±1% 8、控制方式：PCB 单片机 按键控制 数码管显示
产品规格	外形尺寸260mm（长）×380mm（宽）×330mm（高）； 重量：20kg

VTC-100真空旋转涂膜机

VTC-100 真空旋转涂膜机适用于半导体工艺，制版及表面涂覆等工艺。本机具有操作简单、清理方便、体积小巧等优点，主要应用于各大专院校，科研院所的实验室中进行薄膜生成过程。本机具有操作简单、清理方便、体积小巧等优点，主要应用于各大专院校，科研院所的实验室中进行薄膜生成过程。设备采用真空吸附样件方式，使样件取放自如，减少以往繁琐操做程序。标配φ25mm，φ50mm，φ100mm 聚丙烯真空吸盘各一个，适用于不同尺寸硅片及其他材料等涂膜。本机内部供电系统采用了电机部分与控制部分分别使用独立电源的方式，调速系统则采用了抗干扰性高的单片机进行控制，使得转数在高达 1000-8000RPM 范围内都非常稳定。涂膜机本机启动快速、转数稳定，可以保证膜层厚度的均匀性与一致性。此外，在安装结构上，采取了减震措施，使设备运转时更加稳定、噪音降低。

产品名称	VTC-100真空旋转涂膜机
产品型号	VTC-100
安装条件	1、温湿度：10-85%RH (at 25℃ 无凝露） 温度： 0-45℃。 2、设备周围无强烈震源和腐蚀气体。 3、水不需要 4、电：单相：AC220V 50Hz 国标三极插座 10A 必须有良好接地 5、气：真空负压（真空泵） 抽气流量不小于 70L/M 6、工作台：建议 800X600X700mm 承重 100KG 以上(固体水泥台 ） 7、通风装置：无特殊要求
主要参数	1、供电接口：带保险电源插座：AC220/110V 50/60Hz 保险管规格为 10A、φ5×20mm 2、总功率：≤150W 3、载样盘（吸盘）：聚丙烯真空吸盘Φ25mm φ50mm φ100mm 各一个 4、运行方式：逆时针旋转 设有两个运行阶段 5、涂膜转速：SPD1 转速：500-8000 RPM 有效 SPD2 转速：500-8000 RPM 有效 6、涂膜时间：T1 时间：1--600s 有效 7、转速稳定性：±1% 8、控制方式：PCB 单片机 按键控制 数码管显示 注：为避免客户使用时出现误操作/误触碰造成设备损坏，国内标准设备后部“电压转换开关”只支持 AC220V 50Hz 供电，如需 AC220V/AC110V 50HZ/60Hz 转换的设备时，请与本公司销售人员沟通说明，设备实际供电以产品后部粘贴标牌为准。
产品规格	尺寸：380mm×260mm×330mm； 重量：20kg

VTC-200真空旋转涂膜机

VTC-200真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便，体积小巧等优点，主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。VTC-200真空旋转涂膜机工作时利用真空盘吸附的方式将样品固定在载样盘上，该设备利用两段程序控制速度。首先开动涂膜机将设备转数设置在一定的转数范围内，在此转数范围内设置一定的注胶时间对样品进行注胶，注胶结束后涂膜机会提升转数至第二段的极限转数进行匀胶，在匀胶之前要对匀胶时间进行设置，当匀胶时间结束后机器自动停止运转，涂膜的整个过程结束VTC-200真空旋转涂膜机利用高速旋转使粘滞系数较大的胶体、溶液等材料均匀地涂覆在样件表面。

技术参数

产品名称	VTC-200真空旋转涂膜机
产品型号	VTC-200
安装条件	1、温湿度：10-85%RH (at 25℃ 无凝露）  温度：0-45℃。 2、设备周围无强烈震源和腐蚀气体。 3、水：不需要 4、电：单相：AC220V 50Hz 国标三极插座 10A 必须有良好接地 5、气：真空负压（真空泵） 抽气流量不小于 70L/M 6、工作台：建议 800X600X700mm承重 100KG 以上(固体水泥台 ） 7、通风装置：无特殊要求
主要参数	1、供电接口：带保险电源插座：AC220/110V 50/60Hz 保险管规格为 10A、φ5×20mm 2、总功率：≤150W 3、载样盘（吸盘+挡片）：φ153mm 聚丙烯真空吸盘 1 个： 6 寸（φ153mm）样品挡片 1 套 8 寸（φ203.5mm）样品挡片 1 套 4、运行方式：逆时针旋转 设有两个运行阶段 5、涂膜转速：SPD1 转速：500-6000 RPM 有效  SPD2 转速：500-6000 RPM 有效 6、涂膜时间：T1 时间：1--600s 有效    T2 时间：1--600s 有效 7、转速稳定性：±1% 8、控制方式：PCB 单片机 按键控制 数码管显示 注：为避免客户使用时出现误操作/误触碰造成设备损坏，国内标准设备后部“电压转 换开关”只支持 AC220V 50Hz 供电，如需 AC220V/AC110V 50HZ/60Hz 转换的设备时，请与本公司销售人员沟通说明，设备实际供电以产品后部粘贴标牌为准。
产品规格	外形尺寸：500mm×350mm×400mm； 重量：30kg

VTC-100ML全自动多层钙钛矿旋转涂层机

VTC-100ML全自动多层钙钛矿旋转涂层机适用于钙钛矿材料的涂膜，半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机实现滴胶、旋涂、烘干的整个过程自动完成；可同时交替涂覆两种薄膜，两种液体各交替 500次，实现千层薄膜的涂覆。本机可用于酸、碱性涂覆溶液的涂膜制备。设备标配不同尺寸的真空吸盘，可根据样品尺寸不同选择不同的真空吸盘，利用真空吸附的方式固定基片。该机主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。

技术参数